[뉴스핌=황세준 기자] SK하이닉스는 26일 컨퍼런스콜에서 10나노 후반대(1x나노) D램을 1분기 중 기술개발 완료하고 2분기부터 공정전환 및 고객사 샘플링에 나서 3분기부터 양산한다고 밝혔다. 

또 연말까지 20나노 초반대(2Z나노) D램 비중을 전체의 60%로 확대하고 1X나노 D램은 10% 수준의 비중을 목표로 한다고 덧붙였다.

[뉴스핌 Newspim] 황세준 기자 (hsj@newspim.com)