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[서울=뉴스핌] 성상우 기자 = 삼성전자는 지난해 연간 약 29조4000억원의 시설투자를 집행했다고 31일 밝혔다. 사업부문별로는 반도체 23조7000억원, 디스플레이 2조9000억원 규모다.
메모리 반도체의 경우, 평택 반도체 라인 증설로 2017년 대비 소폭 증가했다. 파운드리는 2017년에 10나노 공정 신규 증설이 완료됐고, OLED도 플렉시블 패널 생산능력 증설 투자가 마무리돼 예년 수준으로 감소했다.
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[9보] 삼성전자, 지난해 연간 시설투자 29.4조
기사등록 : 2019-01-31 08:46
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