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삼성전자, 3분기 시설투자 8.4조 집행...EUV 5나노 공정 확대

기사등록 : 2020-10-29 09:20

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[서울=뉴스핌] 심지혜 기자 = 삼성전자는 3분기 시설투자로 8조4000억원을 집행했다고 29일 밝혔다. 

사업별로는 반도체 6조6000억원, 디스플레이 1조5000억원 수준이다.

3분기 누계로는 25조5000억원이 집행됐고, 반도체 21조3000억원, 디스플레이 3조1000억원 수준이다.

서울 삼성전자 서초사옥 /김학선 기자 yooksa@

삼성전자는 올해 전체 시설투자가 약 35조2000억원으로 전년 대비 증가할 것으로 예상했다. 

사업별로는 반도체 28조9000억원, 디스플레이 4조3000억원 수준이다. 다만 이 수치는 현재 시점에서의 전망치로서 추후 시장 상황과 설비 입고 시점 등 변수에 따라 달라질 수 있다. 

반도체 투자 중 메모리 반도체의 경우 향후 수요 증가 대응 등을 위한 첨단공정 전환과 증설 투자로 전년 대비 증가하고 파운드리도 극자외선(EUV) 5나노 공정 등 증설 투자로 늘어날 전망이다.  

디스플레이는 QD 디스플레이 생산능력(캐파)과 중소형 신기술 공정 중심으로 투자가 증가할 것으로 예상된다.

sjh@newspim.com

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